创新与保护并行！华为公布EUV光刻技术相关专利

众所周知，在集成电路制造中，光刻覆盖了微纳图形的转移、加工和形成环节，决定着集成电路晶圆上电路的特征尺寸和芯片内晶体管的数量，是集成电路制造的关键技术之一。而随着半导体工艺向7nm及以下节点的推进，极紫外(extreme ultraviolet，EUV)光刻成为首选的光刻技术。

由于EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时，相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系，当这些子光束投射在掩膜版上叠加时会形成固定的干涉图样，出现有明暗变化、光强不均匀的问题，因此，必须先进行去相干处理(或者采用避免相干影响)，达到匀光效果，以保证光刻工艺的正常进行。

根据国家知识产权局官网的消息，华为技术有限公司于11月15日公布了一项与光刻技术相关的专利，专利申请号为202110524685X。

据悉，该专利申请提供一种反射镜、光刻装置及其控制方法，涉及光学领域，能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的，进而解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。

该光刻装置包括相干光源1、反射镜2(也可以称为去相干镜)、照明系统3。其中，反射镜2可以进行旋转；例如，可以在光刻装置中设置旋转装置，反射镜2能够在旋转装置的带动下发生旋转，如下图所示。

在该光刻装置中，相干光源1发出的光线经旋转的反射镜2的反射后，通过照明系统3分割为多个子光束并投射至掩膜版4上，以进行光刻。

另外，在光刻装置中，上述照明系统3作为重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明(匀光)、控制曝光剂量和实现离轴照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。述照明系统3的匀光功能可以是通过科勒照明结构实现。

该照明系统3包括视场复眼镜31(field flyeye mirror，FFM)、光阑复眼镜 32(diaphragm flyeye mirror，PFM)、中继镜组33；

其中，中继镜组33通常可以包括两个或者两个以上的中继镜。照明系统3通过视场复眼镜31将来自相干光源 1 的光束分割成多个子光束，每个子光束再经光阑复眼镜32进行照射方向和视场形状的调整，并通过中继镜组33进行视场大小和 / 或形状调整后，投射到掩膜版4的照明区域。

通过在相干光源1与照明系统3之间的光路上设置反射镜2，在此情况下，相干光源1发出的光线经旋转的反射镜2反射后相位不断发生变化。

这样一来，在经反射镜2反射后的光线通过照明系统3分割为多个子光束并投射至掩膜版4上时，形成在掩膜版4的照明区域的干涉图样不断变化，从而使得照明视场在曝光时间内的累积光强均匀化，从而达到匀光的目的，进而也就解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。

近年来，在转变经济结构、推动产业升级过程中，创新发挥了不可或缺的作用，并推动了知识产权的创造、运用、管理和保护。专利乃至知识产权作为创新成果的法律保护手段，越来越受到创新主体的重视。

在以创新驱动发展的科技领域，每个公司都要注重保护自己的创新成果，及时申请获得知识产权！申请专利不仅可以保护自主知识产权，同样可以避免创新技术被他人占有、侵犯。只有创新与保护并行，才能营造一个有利于创新与发展的和谐环境，企业才能获得长久发展！